数keV〜数十keVのエネルギーを持つ細いイオンビーム(一次イオンビーム)を試料表面に照射し、スパッタリング(sputtering)により試料表面から放出される試料構成物質のイオン(二次イオン)を加速して質量分析をおこなうもの。 |
装置名:二次イオン質量分析計 Secondary Ion Mass Spectrometer またはイオン(マイクロ)プローブ Ion Microprobe, Ion Probe |
酸素(O2+や O-)やセシウム(Cs-)のイオン(一次イオン)を加速して、試料表面に照射する。 スパッタリングにより飛び出してきた粒子のうち、電荷を持つ粒子(二次イオン)を質量分析する。 試料表面がイオン源になるため、「その場分析」が可能で、 多くの元素について感度が高い。 |
利点
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欠点
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