細く絞った電子線を試料表面に照射し、その部分から放射される二次電子、反射電子、特性Ｘ線、光を分析できる機器です。試料表面の数ミクロンオーダーの情報を得ることができます。

　当方には、JEOL社製 JSM-5310 があります。表面をダイヤモンド、もしくはアルミナで鏡面研磨した試料の分析をする事が出来ます。試料は直径30ｍｍまで。薄片でも、樹脂に埋め込んだ試料でもＯＫです。炭素蒸着をして、表面の導通を取ってから、分析します。この機器でできるのは、以下の項目です。

二次電子像（SEI）: 表面画像
反射電子像（BEI）: 平均分子量像、凸凹像
特性Ｘ線: 元素組成の定性、定量分析に使用
光子像（カソードルミネッセンス）: 鉱物の成長軌跡など（→ CL の説明）

　細く絞った電子線を試料表面に照射し、その部分から放射される光を分析する機器です。試料表面の数ミクロンオーダーの情報を得ることができます。この機器は、走査型分析電子顕微鏡（SEM-EDS）に付いています。

　当方には、Gatan社製 Mini-CL があります。元来は、単色カソードルミネッセンス分析器です。私たちは、光電子増倍管（フォトマル）の前にカラーフィルターをはめられるように、改造しました。赤、青、緑のバンドパスフィルターを通したルミネッセンス像を取得、合成することで、カラーカソードルミネッセンス像が得られるようになりました。ほかにも、ＵＶバンドパスフィルターを保有しており、コランダムの分析に役に立っています。

　先端にダイヤモンドの付いた細い触針で試料表面をなぞり、ミクロンオーダーの表面形状を分析する機器です。

　当方には、日本真空社製 DEK-TAK 3 があります。この機器で、SIMSで掘った分析点の深さ、形状を調べたりします。

• ダイヤモンド触針...12.5 μm径
• 垂直測定範囲.........10nm - 65.5μm
• 垂直解像度..............1.0nm
• 測定距離...................50μm - 30mm
• 最大試料厚さ...........20mm
• 試料台径...................127mm
• Windows 3.1でコントロール

　レーザー光を走査することで、試料表面を高解像度で観察できる機器です。当方には、レーザーテック社製 1LM21 があります。Nikonの双眼光学顕微鏡に接続して、使用しています。

非接触で、表面形状を測定できます。試料をｚ軸方向に移動しながら、焦点の合うｚ軸の高さ情報を記憶させることで、高さを測定します。パソコン処理により、三次元の立体表示が可能です。

• He-Neレーザー光源
• 走査時間................................1/30秒
• 光学的解像度......................0.25μm
• 微小寸法測定精度（σ）.....0.01μm
• 表面形状測定範囲.............0.1 - 600μm
• 表面形状測定精度（σ）....<0.03μm

　岩石より取り出した鉱物粒を、大きな二つの磁石の間を、ゆっくり揺らしながら通し、磁性鉱物と非磁性鉱物を分離する機械です。当方には、Franz社製 ISODYNAMIC があります。

　非導電性試料への各種金属コーティング、またはエッチングなどの処理に使用できる装置です。当方には、JEOL社製 JFC-1500があります。（炭素真空蒸着装置は、別に所有しています。

• スパッタリング方式
  　　....................二極対向電極放電方式
• コーティングターゲット
  　　....................50mm径 Au（金）
• 使用真空度..........〜10^-1Pa
• 試料台径..................70mm
• 膜厚（プリセット方式）......1-数千Å

　当方には、KOKUSAN社製 H-108M₂があります。

• 最高回転数 .........5000rpm
  　　(100-5000rpm; 100rpm 単位で設定)
• 最大遠心力....4620×g
  　　(10-4620×g; 50×g 単位で設定)
• 最大容量................1000ml
• タイマー...................0-99 分